电子发烧友网综合报道,近日日本科技大厂尼康推出了首款后端光刻系统DSP-100该款光刻机是2024年10月宣布的开发项目成果,2025 年7月起接受订单,预计2026财年内上市,即2025年4月-2026年3月完成交付

伴随人工智能技术普及,数据中心对集成电路产品需求大增。在以芯粒技术为代表的先进封装领域,基于玻璃面板制造的封装技术需求增长,对电路设计精细化和封装大型化提出要求,促使尼康研发高分辨率、大范围曝光能力的后端光刻机。

此次推出的后端光刻机融合尼康高分辨率技术与FPD(平板显示)曝光设备的多镜组协同优势,采用无掩膜SLM(空间光调制器)技术,直接将电路图案投射至基板,无需传统光掩膜

市场中单套的掩膜成本基本在百万美元左右,并且大型的封装掩膜制造良品率大概为65%,而使用无掩膜SLM技术,就可以节省超过40%的开发成本,同时极大地提升生产效率。

而传统的掩膜制作周期在2-4周,使用SLM技术,可以通过自定义编程的方式,将这一周期压缩到几个小时之内。

支持1μm(1000nm)的线宽/间距(L/S)分辨率,重合精度≤±0.3μm,满足当前主流先进封装的线路精度要求

同时在适配上,专为大面积封装设计,支持最大600×600mm的方形基板,比如玻璃或树脂面板,打破传统晶圆级封装的尺寸限制

生产效率上,以510×515mm基板为例,每小时可处理50片,较传统晶圆级封装方案产能提升超30%;600×600mm基板的单片生产效率是300mm晶圆的9倍

DSP-100主要聚焦扇出型面板级封装(FOPLP),这是当前先进封装的重要趋势,尤其适用于AI芯片、高性能计算(HPC)等领域

当前台积电、英特尔、三星等行业巨头正积极采用FOPLP技术以克服300mm晶圆的成本和面积限制,DSP-100的高分辨率、大尺寸及无掩膜特性,能有效解决多芯片集成的技术瓶颈

有机构判断,尼康凭借DSP-100切入FOPLP设备市场,预计2026财年上市后将迅速抢占20%的市场份额。而作为尼康的首款后端光刻机,通过技术创新填补了先进封装领域的空白,有望成为AI芯片等高性能半导体器件封装的关键设备。

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