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2025年先进光刻技术研讨会
为促进先进光刻技术领域的学术交流与产业合作，探讨最新技术进展、工艺优化及未来发展方向，半导体在线将于2025年8月1日在苏州举办“2025年先进光刻技术研讨会”，聚焦于掩膜版、光刻机以及光刻胶等核心议题，欢迎参会、参展等合作。
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近日，关于杭州翰亚微电子科技有限公司高档光刻胶新材料项目（一期）在相关网站验收公示。

项目基本情况
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项目投资10150万元，建设年产3吨高档光刻胶新材料（一期），于2024年12月竣工，2025年1月开始调试，实际2.62吨高档光刻胶新材料先行验收。

验收产品方案

本项目验收KrF光刻胶材料2.5t/a,ArF光刻胶材料0.5t/a。

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翰亚微公司生产线产品方案种类与与原环评一致，由于部分生产设备尚未全部到厂，生产规模按照验收范围核定。由上表可知，2025年1月1日~2025年3月31日调试期间，产品产量尚在设备负荷能力范围内。

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杭州翰亚微电子科技有限公司于2023年6月在杭州市钱塘区成立，公司主营业务为半导体集成电路制造中所使用的高端深紫外KrF(248nm)/ArF(193nm)光刻胶以及下一代极紫外EUV(13nm)光刻胶核心树脂原材料及相关单体、电子级功能材料。公司主要股东都是海外归国人员，拥有国外著名高校博士学历和在国外一流半导体材料企业长期从事产品开发和生产管理的工作经历。公司致力于发展成为国内首个具备商业量产能力的高端深紫外光刻胶KrF(248nm)/ArF(193nm)核心树脂材料以及下一代EUV(13nm)极紫外光刻胶树脂材料的高科技生产企业。

来源：公开资讯、原料药情报局整理


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