2025年先进光刻技术研讨会
为促进先进光刻技术领域的学术交流与产业合作,探讨最新技术进展、工艺优化及未来发展方向,半导体在线将于2025年8月1日在苏州举办“2025年先进光刻技术研讨会”,聚焦于掩膜版、光刻机以及光刻胶等核心议题,欢迎参会、参展等合作。
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 90nm节点掩模版量产

2025年上半年,银杏谷生态企业独立第三方半导体掩模版厂商龙图光罩珠海项目顺利投产,公司第三代掩模版PSM产品取得显著进展。公司KrF-PSMArF-PSM陆续送往部分客户进行测试验证,其中90nm节点产品已成功完成从研发到量产的跨越65nm产品已开始送样验证,公司在高端制程的影响力进一步增强,覆盖的下游领域更加丰富。

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 全球领先晶圆厂流片验证顺利

与此同时,公司始终保持与核心客户的紧密协作,不断深化与国内头部晶圆厂的战略合作关系近期,更高制程节点的产品已在全球领先的晶圆代工厂完成产品流片,在线收集的各项关键验证数据均满足客户要求。该节点验证通过后,公司将覆盖该客户三分之一以上的产品需求此外,更高等级的产品亦在进行前期的工艺匹配,预计下半年将开始流片验证,届时公司将可以覆盖该客户绝大部分需求,为公司的长远发展奠定良好的基础。

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企业简介
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深圳市龙图光罩股份有限公司成立于2010年,2022年加入银杏谷生态,2024年科创板上市(688721),主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售,是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。
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20248月公司完成科创板挂牌上市以来,公司不断增加投入进行技术攻关和产品迭代,半导体掩模版工艺能力130nm逐步提升至65nm,并已完成40nm工艺节点的生产设备布局,产品广泛应用于信号链及电源管理IC等成熟制程,以及功率器件、MEMS传感器、先进封装等特色工艺制程。

公司将跟随国家半导体行业发展战略,围绕高端半导体芯片掩模版领域持续加大研发投入,逐步实现高端制程的国产化配套,成为国内一流、国际领先的半导体光罩标杆企业。

来源:龙图光罩

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