公众号记得加星标⭐，第一时间看推送不会错过。在半导体制造中，最近几十年我们看到了晶体管架构从平面FinFET走向GAA，工艺节点不断缩小，来到2nm以下，光刻光源从436nm（g-line）、365nm（i-line）、248nm（KrF）、193nm（ArF）一路跨越至13.5nm（EUV）。然而，可能很多人不知道的是，承载这些极其精密芯片电路图纸的载体—...

公众号记得加星标⭐，第一时间推送不会错过。本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）编译自dqindia半导体制造需求的强劲增长极大地推动了EUV光刻掩膜版市场的发展。2024年全球EUV光刻掩模版市场价值为5.91亿美元，预计到2031年将达到13.6亿美元，预测期内复合年增长率为12.2%。玻璃掩模凭借其卓越的表面光滑度、尺寸稳定性和...